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Business unit

​태양광

SEABatch XL

n-type 고효율 태양전지에 최적화된 시스템

Batch 수직 장비 중 최대 생산량 (최대 투자 효율) 

SEABatch XL 600

Features & Benefits

bath

다양한 Batch Application

  - Alkaline / Acidic texturing / Oxidation
  - pSC1 / SC2 / O3 cleaning
  - TOPCon, PERC, HIT 

13800

최대 생산량

  - 600 wafers load 
  - up to 12,000 w/h

210

Wafer 크기

최대 M12 (210 x 210mm)

2%

높은 dosing 정확도

+/- 2%

non metal_1

Metal 성분 제로 

dry_1

완벽 건조

SEAline XL

n-type Inline 시스템에 최적화된 장비 시스템 

SEAline_WAR

Features & Benefits

Inline

다양한 Inline application

  - HF/Metal Cleaning
  - RCA & O3 Cleaning
  - Developing / Etching / Striping
  - Electrical deposition

210

Wafer 크기

최대 M12 (210 x 210mm)

Cleaning

​다양한 세정 솔루션

  - Roller brush / Disc brush 
  - Bubble jet
  - Ultrasonic / Plasma

Particle

파티클(Particle) 제로 설계 

dry_2

완벽 건조

앵커 1

Glass (Thin film, FPD)

SEAline Glass Cleaner

Solar Thinfilm Glass에 최적화된 시스템

분진제로 설계

SEAline Glass_1

Features & Benefits

inline_white

다양한 Inline application

  - RCA & O3 Cleaning
  - Developing / Etching 
/ Striping

Cleaning_w

다양한 세정 solutions

  - Roller brush / Disc brush
  - Bubble jet
  - Ultrasonic / Plasma

G7_w

Glass 크기 

Generation 7

Drying_white

완벽 건조

Particle_w

파티클(Particle)  제로 설계

반도체

SEAbatch SEMI

Batch 수직 장비 중 최대 생산량 (최대 투자 효율)

semicoductor equipment

Features & Benefits

Chemical

다양한 Batch application

  - RCA / SPM / HFO3 / DIO3 cleaning
  - Developing / Etching / Stripping
  - Oxidation / Special drying

icon3

높은 dosing 정확도 

+/- 2ml

Drying

완벽 건조

Batch

생산 가능 기판

  - Si wafer up to 300mm

  - Glass / Ceramics up to 500x500mm

icon4

파티클(Particle) 최소화 

  - RCA cleaning < 30EA
  - Dry < 30EA

non metal_2

Metal 성분 제로

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